紫外负型光刻胶 型号:BN-308
BN308系列紫外负型光刻胶为高抗蚀负性光刻胶， 该系列产品在厚膜应用时仍有较好的分辨率，图形边缘陡直，胶膜对硝酸、氢氟酸、冰乙酸硅腐蚀液有优良的抗腐蚀能力。在硅片上可刻出70-130μm的沟槽。适用于台面工艺和功率器件的制作。
⒈ 性质:
本该产品为浅黄色、粘稠的清亮液体，易溶于苯类溶剂，在酮类、醇类等溶剂中能析淀出絮状固体。在光或热作用下，其中交联剂分解成游离基，与环化胶中的不饱和键加成形成网状结构。
特点：BN308-150、BN308-300、BN308-450系列产品能形成较厚涂层， 显影留膜率高，一般分辨率为1：3（膜厚：线宽）。
⒉ 用途:
BN308系列产品适用于电力电子工业中晶闸管，大功率管等制作工艺， 深腐蚀加工及喷砂工艺要求，刻蚀深度为70-130μm，特殊要求产品可刻蚀140μm深槽。
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